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北京科檢檢測(cè)技術(shù)集團(tuán)有限公司
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型號(hào):Thermo ESCALAB 250XI測(cè)試項(xiàng)目:UPS可以測(cè)試樣品功函數(shù)和價(jià)帶位置;更多測(cè)試要求請(qǐng)咨詢客戶經(jīng)理。樣品要求:1.樣品狀態(tài):薄膜,樣品平面尺寸一般要求5*5mm,最大不超過8*8mm,可以為正方形或者長(zhǎng)方形,厚度最好不要超過1mm,樣品要求具有一定導(dǎo)電性。2.粉體樣品需要制備為薄膜,具體制備方法及要求如下:先把粉
4006863985 立即咨詢型號(hào):Thermo ESCALAB 250XI UPS可以測(cè)試樣品功函數(shù)和價(jià)帶位置; 更多測(cè)試要求請(qǐng)咨詢客戶經(jīng)理。 1.樣品狀態(tài):薄膜,樣品平面尺寸一般要求5*5mm,最大不超過8*8mm,可以為正方形或者長(zhǎng)方形,厚度最好不要超過1mm,樣品要求具有一定導(dǎo)電性。 2.粉體樣品需要制備為薄膜,具體制備方法及要求如下:先把粉末樣品分散在水或乙醇里(濃度盡量低點(diǎn)),滴在硅片上烘干,可以多循環(huán)幾次,一定要保證膜表面盡量平整、均勻、連續(xù)、整潔,硅片尺寸5*5mm-5*8mm,厚度幾百μm,涂完膜干燥后膜層以完全覆蓋住硅片即可(膜層厚度10-50nm即可),膜層的電阻最好小于10兆歐,最大不能超過30兆歐。 第一,由于UPS測(cè)量中光激發(fā)電子的動(dòng)能在0-20eV范圍,在此能量區(qū)間的電子逃逸深度較小,且隨能量急劇變化,材料表面的導(dǎo)電性、污染程度和粗糙度等因素會(huì)對(duì)測(cè)量結(jié)果產(chǎn)生較大影響,輕則導(dǎo)致譜圖的峰位移動(dòng)和峰形變化,重則導(dǎo)致無信號(hào)。UPS適用于分析表面均勻潔凈的導(dǎo)體以及導(dǎo)電性較好的半導(dǎo)體薄膜材料。對(duì)于合成的粉末樣品,影響因素較多,UPS測(cè)試存在一定風(fēng)險(xiǎn)
; 第二,UPS測(cè)試過程中,紫外光的掃描范圍僅為樣品中的某個(gè)微小區(qū)域,如果樣品制備不均勻,或者測(cè)試區(qū)域恰好條件不佳,也可能會(huì)影響測(cè)試結(jié)果; 測(cè)試?yán)蠋熃o出的只是分析結(jié)果僅供參考,因?yàn)闇y(cè)試?yán)蠋煵恢烂總€(gè)樣品具體是什么材料,只能根據(jù)自己的習(xí)慣和經(jīng)驗(yàn)大致作圖分析,所以我們一般還需要根據(jù)對(duì)樣品性質(zhì)的了解,對(duì)數(shù)據(jù)分析結(jié)果微調(diào)甚至大的調(diào)整。 測(cè)試結(jié)果一般給出的是excel格式原始數(shù)據(jù),可以提供教程自行作圖分析。測(cè)試項(xiàng)目:
樣品要求:
常見問題及回答:
1、測(cè)試結(jié)果為什么跟文獻(xiàn)或者預(yù)期有偏差?
2、測(cè)試?yán)蠋熃o出的數(shù)據(jù)分析結(jié)果準(zhǔn)確嗎,是否可以調(diào)整?
結(jié)果展示:
介紹紫外光電子能譜(UPS)是以紫外線為激發(fā)光源的光電子能譜。其原理是基于愛因斯坦的光電定律。用惰性氣體放電產(chǎn)生的紫外光(最常用的低能光子源為氦Ⅰ和氦Ⅱ)照射試···...
型號(hào):PANalytical Axios; RIGAKU ZSX Priums測(cè)試項(xiàng)目:可測(cè)元素范圍:11Na-92U 樣品要求:1. 樣品狀態(tài):可為···...
介紹X射線光電子能譜(XPS)是分析物質(zhì)表面化學(xué)性質(zhì)的一項(xiàng)技術(shù),也作為電子材料與元器件顯微分析中的一種先進(jìn)分析技術(shù),可測(cè)量材料中元素組成、經(jīng)驗(yàn)公式、元素化學(xué)態(tài)和···...
介紹掠入射X射線衍射(GIXRD)是一種讓X射線略過樣品表面的技術(shù),能夠通過調(diào)節(jié)入射角度從而改變探測(cè)深度,對(duì)表面的靈感度可高達(dá)致幾nm,這種技術(shù)能夠更真實(shí)全面地···...